Компания Canon представляет новую систему литографии

Canon представляет новую систему литографии с большим полем экспозиции при высоком разрешении для производства полнокадровых CMOS-сенсоров, устройств XR и т.п.

Компания Canon Inc. объявила, что выпустит полупроводниковую систему литографии FPA-5550iX i-line stepper для фронтальных процессов, которая обеспечивает большое поле экспозиции 50 x 50 мм и высокое разрешение 0,5 мкм.

Новая система имеет большое поле экспонирования 50 x 50 мм и высокое разрешение 0,5 мкм, что делает возможной однократную экспозицию большого поля с высоким разрешением, необходимым для создания полнокадровых CMOS-сенсоров и других устройств, в которых повышается точность. Новая система также способна производить небольшие дисплеи для таких устройств, как дисплеи, устанавливаемые на голову. Она также обеспечивает одиночную экспозицию с высоким разрешением, необходимую для изготовления высококонтрастных панелей micro-OLED с широкими углами обзора, которые, как ожидается, будут расти по мере появления дисплеев для передовых устройств XR. В дополнение к полупроводниковым устройствам, новый FPA-5550iX может также изготавливать дисплеи для самых современных устройств XR, тем самым поддерживая производство широкого спектра устройств.

В FPA-5550iX используется тот же проекционный объектив, что и в его предыдущей модели, FPA-5510iX (выпущена в сентябре 2015 года), что обеспечивает высокое разрешение 0,5 мкм. Благодаря широкому полю экспозиции 50 x 50 мм система может выполнять одиночную экспозицию с высоким разрешением для полнокадровых CMOS-сенсоров, дисплеев следующего поколения для устройств XR и многого другого. Более того, производственные процессы были усовершенствованы для обеспечения высококачественного и стабильного производства проекционных объективов, многие из которых используются в системе, для удовлетворения ожидаемого высокого спроса на системы полупроводниковой литографии.

Кроме того, новый прицел для выравнивания, который может считывать более широкий спектр меток выравнивания, расширил диапазон процессов, в которых можно использовать FPA-5550iX.В дополнение к функции "обнаружение в ярком поле" для измерения прямого света, в область выравнивания добавлена новая функция "обнаружение в темном поле", позволяющая измерять рассеянный и дифрагированный свет, что позволяет пользователям выбирать широкий диапазон методов измерения. Измерение с низким уровнем шума стало возможным благодаря расширению диапазона используемых длин волн, а также использованию датчика площади для многопиксельного измерения. Благодаря этим усовершенствованиям система может обнаруживать и измерять метки выравнивания с низким контрастом. Более того, система может дополнительно выбирать инфракрасную длину волны, которая может проходить через кремний, позволяя пользователям измерять выравнивание на обратной стороне пластины, что является обязательным требованием для изготовления датчиков с обратной подсветкой. Таким образом, гибкость измерения меток выравнивания позволяет использовать систему в различных процессах.

В сочетании с платформой Canon Lithography Plus Solution platform (выпущена в сентябре 2022 года) FPA-5550iX предоставляет операторам возможность контролировать состояние системы литографии, а также выполнять анализы, помогая им поддерживать надлежащий контроль качества и более высокие показатели использования.

Источник: global.canon